2M2AD1 | Physique des composants à semi-conducteurs | Matériaux et Chimie | S4 | ||||||
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Cours : 8 h | TD : 4 h | TP : 0 h | Projet : 0 h | Total : 12 h | |||||
Responsable : Christophe Goupil |
Pré-requis | |
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Notions de Thermodynamique statistique. Notions de technologie de fabrication microélectronique. |
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Objectifs de l'enseignement | |
Ce cours a pou objectif de préparer au stage de technologie PMOS et MEMS (2M2AD2). Il vise à donner aux étudiants les principaux éléments nécessaires pour aborder le stage avec de bonnes connaissances en technologie microélectronique. Les aspects pratiques sont abordés, en insistant sur les étapes clés des procédés ainsi que les aspects de sécurité. |
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Programme détaillé | |
Salle Blanche et technologie. Diffusion à l'état solide. Photolithogravure positive et négative. Gravure sèche, gravure humide. Métallisation. Modélisation d'un PMOS. Caractérisations électriques. |
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Applications (TD ou TP) | |
Toute application nécessitant le travail en environnement de salle blanche. | |
Compétences acquises | |
Notion pratiques sur les technologies MOS et MEMS. | |
Bibliographie | |
Analysis and Design of Analog Integrated Circuits de Paul R. Gray, Paul J. Hurst, Stephen H. Lewis et Robert G. Meyer. |
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