Livret pédagogique numérique

Elaboration et physico-chimie des films minces (M2R)

3MAH3	Elaboration et physico-chimie des films minces (M2R)				Matériaux et Chimie				S5A
Cours : 15 h		TD : 0 h		TP : 0 h		Projet : 0 h		Total : 15 h
Responsable : Jean-Francois Hamet

Pré-requis
Eléments de cristallographie, croissance cristalline, physique générale, chimie du solide
Objectifs de l'enseignement
Cet enseignement a pour objectif de familiariser les étudiants avec les techniques de dépôts de films minces et de leur donner les éléments leur permettant d'appréhender un problème de ce domaine.
Programme détaillé
Techniques du vide - pompage Quelques éléments de cinétique des gaz Techniques de dépôt : évaporation, pulvérisation cathodique DC et RF, ablation laser, Epitaxie par jets moléculaires, MOCVD Croissance, cristallisation, orientation, épitaxie, contraintes, rugosité Techniques de caractérisations structurales des films minces : Diffraction X (théta-2 théta, oméga scans, figures de pôles, réflectivité...), microscopies en champ proche, RHEED. Croissance de multicouches et superréseaux Nanostructuration
Applications (TD ou TP)
Industrie des composants semiconducteurs, matériaux pour l'optique, revêtements magnétiques, revêtements fonctionnels
Compétences acquises
Savoir dimensionner un système de dépôt. Savoir choisir la technique la plus adaptée au problème posé. Connaitre les difficultés, mais aussi les potentialités de ce mode d'élaboration.
Bibliographie
Non renseigné